陶瓷抛光电子抛光蓝宝石抛光碱性大粒径硅溶胶50%

2020/12/6 1:31:16发布112次查看

适用范围：
1.抛光：用于制备cmp抛光液，用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、宝石、液晶玻璃、镜头、金属表面等产品的抛光。
2.催化剂载体、数码印刷等。
用于抛光液的使用方法：
建议用去离子水将浓度稀释至10-20%，也可根据实际工艺要求改变配比，若要调节ph值，可以用10%hcl，3%naoh，5%koh或者10%氨水在充分搅拌下慢慢滴入。

江门市惠和硅制品有限公司

13825785230
中国江门