半导体工业使用涡轮分子泵
在半导体工业,涡轮分子泵用于以下应
用场合:
- 蚀刻
- 溅射
- 离子注入
- cvd
- 光刻
这些应用中,经常需要抽除性气
体。
需要使用配有吹扫气体设备的磁悬浮分
子泵,以免轴承损坏。尤其对于金属蚀
刻,涡轮分子泵的泵内可能发生沉积现
象, 选用带温度控制的扩展附件在
mag 1500 c、mag 2000 c、mag
2800和mag 3200可以防止这种情况。
与机械轴承涡轮分子泵相比,磁悬浮泵
的优势在于气体流量较大时可以防止轴
承过热,能够有效地防止性介质对
磁悬浮轴承的损坏。
在电子显微镜和光刻设备中,低振动值
异常重要。为此,应使用磁悬浮分
子泵。
的前泵选用trivac系列的旋片
泵,可以配cs系统。
turbovac mag w 2200 c
镀膜系统领域使用的涡轮分子泵
光学和磁性介质存储、光学元件以及建
筑玻璃的镀膜,需要高空条件。这是
膜均匀、膜层附着在基底上的
方法。
空产生的方法对镀膜质量有重大影
响。通过将空室抽到10-6mbar(0.75 x
10-6torr)范围,从工艺室除去杂质气体
和水分子。如果是溅射镀膜,那么镀膜
工艺压强范围是10-3至10-2mbar(0.75 x
10-3至0.75 x10-2 torr),如是蒸发镀膜,
压强低于10-4 mbar(0.75 x 10-4 torr)。
涡轮分子泵满足客户对清洁空、操作
简单、设计紧凑和几乎无维护运行等方
面的所有要求。莱宝空分子泵系列涵
盖法兰直径从40mm至250mm
(1.57in.至9.84in.)的分子泵。每种应用
都可找到适合的产品,如光学镀膜、显
示器和建筑玻璃镀膜,数据存贮镀膜
(cd、dvd、硬盘)、工具的镀膜等。
科研应用
莱宝空所有型号涡轮分子泵都可以用
于研发领域。
高能
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tsp钛丝
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mag integra – 集成磁悬浮复合分子泵
- 水冷
- ce和rohs认证:满足ul要求
- 防护等ip 54
- 两个工业通信模块卡接口
- rs 232,维护接口
- 可以安装其它接口:profibus、rs
485 c,9针24 v sps
客户得益
- 抽速和气载量
- 可靠、耐用
- 免维护
- 适合用于分析、薄膜技术、电子显
微镜、科研领域等对振动敏感的应
用场合
- 由于采用模块化设计具有灵活性,
变频器可以安装在侧或下面
典型应用
- pvd镀膜系统
- 建筑玻璃镀膜
- 光学镀膜
- 液晶显示器
- 平板显示
- 科研
- 分析领域
技术特点
- 任意方向安装
- dn 200和/或250 ,在iso-f和/或cf
高空接口
- dn 40 kf前空接口
- 保护气/破空接口
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空方案解决家,北京辉腾隆晟机电设备有限公司(莱宝授权代理商),以下为turbovac 莱宝分子泵技术特点介绍
技术特点
turbovac i
- 集成变频器,24/48v dc 电源供电
- 切削成型转子和新复合设计使分
子泵具有性能和抽速,对轻
质气体尤为突出
- 任意方向安装
- 高的可靠性源于创新的轴承设计理
念
- 设计灵活,适应性强
- 市场上款无油半磁浮分子泵
- 现场维护(更换轴承),维修成本低,
时间短
- 通讯接口齐(标配usb,rs485和
15针数字i/o)
turbovac ix
- 集成空系统控制器配置灵活的通讯
接口和附件控制接口(用于控制冷却
单元,阀门,规管和前泵等)
- 附件齐,即插即用
- 适应性强,适合各类空工艺
turbovac t i, t ix
- 标准分子泵(不含复合)
- 带气载能力强
- 耐粉尘
- 启动时间短
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